《走出專利認(rèn)知誤區(qū),為創(chuàng)新保駕護(hù)航》
發(fā)布人:lxdipr發(fā)布日期:2024-10-10 瀏覽量:次
在創(chuàng)新驅(qū)動發(fā)展的時(shí)代,專利的重要性不言而喻。然而,很多人對專利存在一些認(rèn)知誤區(qū),這些誤區(qū)可能會讓創(chuàng)新者錯(cuò)失保護(hù)自己成果的良機(jī)。今天,就讓我們一起來糾正這些誤區(qū)。

誤區(qū)一:自主研發(fā)產(chǎn)品無需申請專利就能獲得保護(hù)。
一些創(chuàng)業(yè)者或發(fā)明人認(rèn)為,只要是自己研發(fā)的產(chǎn)品,無需申請就能獲得保護(hù),甚至在公開場合發(fā)表了就表示擁有了該項(xiàng)知識產(chǎn)權(quán)的保護(hù)。但實(shí)際上,專利是一種壟斷權(quán),以在先申請為原則。自主研發(fā)的技術(shù)成果如果不申請專利,就得不到法律確認(rèn)和保護(hù)。一旦出現(xiàn)侵權(quán)行為,該項(xiàng)自主研發(fā)成果無法獲得法律保護(hù)。
在我國,專利申請采用先申請?jiān)瓌t,具有創(chuàng)造性、新穎性和實(shí)用性的發(fā)明創(chuàng)造誰先申請,專利就授予誰。如果發(fā)明人不及時(shí)申請,被他人搶先申請并被授予專利權(quán),不僅無法追究他人的法律責(zé)任,甚至自己會成為被告。因此,一旦有合適的產(chǎn)品,應(yīng)盡快申請專利,以便獲得保護(hù)。
誤區(qū)二:產(chǎn)品大規(guī)模生產(chǎn)或運(yùn)營后不再申請專利。
部分權(quán)利人或發(fā)明人認(rèn)為申請了一項(xiàng)或者幾項(xiàng)專利后,就能永遠(yuǎn)獲得保護(hù),并且忽視后續(xù)研發(fā)或者申請工作。即使開發(fā)出了新產(chǎn)品或有了新改進(jìn),也不再申請專利。這種一勞永逸的思想,會限制專利的延伸和專利保護(hù)。
如果他人針對已申請的產(chǎn)品進(jìn)行了改進(jìn),并且獲得了專利授權(quán),就會影響原專利價(jià)值的發(fā)揮,甚至?xí)?dǎo)致原專利權(quán)人變成侵權(quán)人。特別是在很多行業(yè)產(chǎn)品更新?lián)Q代比較快的情況下,如果沒有及時(shí)跟上專利申請的進(jìn)程,就會落入這個(gè)誤區(qū)陷阱。
誤區(qū)三:創(chuàng)意沒有成型的產(chǎn)品或者投入生產(chǎn),無需申請專利。
很多權(quán)利人或發(fā)明人認(rèn)為,專利一定要有實(shí)際的產(chǎn)品,或者投入生產(chǎn)的工藝流程,才能申請專利。這是對專利申請保護(hù)認(rèn)識不足造成的。
實(shí)際上,專利只要有切實(shí)可行的想法,甚至是只有設(shè)計(jì)圖紙或者思路,符合專利授權(quán)的三要素,就可以申請專利了。這樣既能獲得專利保護(hù),還能占領(lǐng)先機(jī),更重要的是投入的成本也是最低的。而且,如果在產(chǎn)品或者工藝思路被公開后再申請專利,即使獲得了授權(quán),侵權(quán)人也會以專利申請之日技術(shù)已經(jīng)被公開為由進(jìn)行抗辯,有些專利無效就是針對這種創(chuàng)意或者設(shè)計(jì)產(chǎn)品被提前公開進(jìn)行的。
總之,我們要正確認(rèn)識專利,走出這些認(rèn)知誤區(qū),及時(shí)申請專利,為自己的創(chuàng)新成果保駕護(hù)航。只有這樣,我們才能在激烈的市場競爭中立于不敗之地,推動科技創(chuàng)新不斷向前發(fā)展。

誤區(qū)一:自主研發(fā)產(chǎn)品無需申請專利就能獲得保護(hù)。
一些創(chuàng)業(yè)者或發(fā)明人認(rèn)為,只要是自己研發(fā)的產(chǎn)品,無需申請就能獲得保護(hù),甚至在公開場合發(fā)表了就表示擁有了該項(xiàng)知識產(chǎn)權(quán)的保護(hù)。但實(shí)際上,專利是一種壟斷權(quán),以在先申請為原則。自主研發(fā)的技術(shù)成果如果不申請專利,就得不到法律確認(rèn)和保護(hù)。一旦出現(xiàn)侵權(quán)行為,該項(xiàng)自主研發(fā)成果無法獲得法律保護(hù)。
在我國,專利申請采用先申請?jiān)瓌t,具有創(chuàng)造性、新穎性和實(shí)用性的發(fā)明創(chuàng)造誰先申請,專利就授予誰。如果發(fā)明人不及時(shí)申請,被他人搶先申請并被授予專利權(quán),不僅無法追究他人的法律責(zé)任,甚至自己會成為被告。因此,一旦有合適的產(chǎn)品,應(yīng)盡快申請專利,以便獲得保護(hù)。
誤區(qū)二:產(chǎn)品大規(guī)模生產(chǎn)或運(yùn)營后不再申請專利。
部分權(quán)利人或發(fā)明人認(rèn)為申請了一項(xiàng)或者幾項(xiàng)專利后,就能永遠(yuǎn)獲得保護(hù),并且忽視后續(xù)研發(fā)或者申請工作。即使開發(fā)出了新產(chǎn)品或有了新改進(jìn),也不再申請專利。這種一勞永逸的思想,會限制專利的延伸和專利保護(hù)。
如果他人針對已申請的產(chǎn)品進(jìn)行了改進(jìn),并且獲得了專利授權(quán),就會影響原專利價(jià)值的發(fā)揮,甚至?xí)?dǎo)致原專利權(quán)人變成侵權(quán)人。特別是在很多行業(yè)產(chǎn)品更新?lián)Q代比較快的情況下,如果沒有及時(shí)跟上專利申請的進(jìn)程,就會落入這個(gè)誤區(qū)陷阱。
誤區(qū)三:創(chuàng)意沒有成型的產(chǎn)品或者投入生產(chǎn),無需申請專利。
很多權(quán)利人或發(fā)明人認(rèn)為,專利一定要有實(shí)際的產(chǎn)品,或者投入生產(chǎn)的工藝流程,才能申請專利。這是對專利申請保護(hù)認(rèn)識不足造成的。
實(shí)際上,專利只要有切實(shí)可行的想法,甚至是只有設(shè)計(jì)圖紙或者思路,符合專利授權(quán)的三要素,就可以申請專利了。這樣既能獲得專利保護(hù),還能占領(lǐng)先機(jī),更重要的是投入的成本也是最低的。而且,如果在產(chǎn)品或者工藝思路被公開后再申請專利,即使獲得了授權(quán),侵權(quán)人也會以專利申請之日技術(shù)已經(jīng)被公開為由進(jìn)行抗辯,有些專利無效就是針對這種創(chuàng)意或者設(shè)計(jì)產(chǎn)品被提前公開進(jìn)行的。
總之,我們要正確認(rèn)識專利,走出這些認(rèn)知誤區(qū),及時(shí)申請專利,為自己的創(chuàng)新成果保駕護(hù)航。只有這樣,我們才能在激烈的市場競爭中立于不敗之地,推動科技創(chuàng)新不斷向前發(fā)展。